Characterization of triazine derivatives on silicon wafers studied by photoelectron spectroscopy (XPS, UPS) and metastable impact electron spectroscopy (MIES): Fid-Bau Portal

Characterization of triazine derivatives on silicon wafers studied by photoelectron spectroscopy (XPS, UPS) and metastable impact electron spectroscopy (MIES)

Dieckhoff, S. / Schlett, V. / Possart, W. / Hennemann, O.-D. / Guenster, J. / Kempter, V.

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Titel:

Characterization of triazine derivatives on silicon wafers studied by photoelectron spectroscopy (XPS, UPS) and metastable impact electron spectroscopy (MIES)

Beteiligte:

Dieckhoff, S. (Autor:in) / Schlett, V. (Autor:in) / Possart, W. (Autor:in) / Hennemann, O.-D. (Autor:in) / Guenster, J. (Autor:in) / Kempter, V. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 103 ; 221-229

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)