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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Valence band structure of metal silicides modified by argon ion implantation

    Beteiligte:

    Yamauchi, S. (Autor:in) / Hasebe, Y. (Autor:in) / Ohshima, H. (Autor:in) / Hattori, T. (Autor:in) / Hirai, M. (Autor:in) / Kusaka, M. (Autor:in) / Iwami, M. (Autor:in) / Feldman, L. C. / Nishizawa, J. / Van der Weg, W. F.

    Erschienen in:

    A journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces ; 522-525

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 100/101

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1996

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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