Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling: Fid-Bau Portal

Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling

Guyot, Y. / Malhaire, C. / Le Berre, M. / Champagnon, B. / Sibai, A. / Bustarret, E. / Barbier, D.

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Titel:

Micro-Raman study of thermoelastic stress distribution in oxidized silicon membranes and correlation with finite element modeling

Beteiligte:

Guyot, Y. (Autor:in) / Malhaire, C. (Autor:in) / Le Berre, M. (Autor:in) / Champagnon, B. (Autor:in) / Sibai, A. (Autor:in) / Bustarret, E. (Autor:in) / Barbier, D. (Autor:in) / Camassel, J. / Fricke, K. / Krozer, V.

Erschienen in:

High Temperature Electronics: Materials, Devices and Applications ; 24-28

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 46

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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