Development of preferred orientation in polycrystalline AlN thin films deposited by rf sputtering system at low temperature: Fid-Bau Portal

Development of preferred orientation in polycrystalline AlN thin films deposited by rf sputtering system at low temperature

Rodriguez-Navarro, A. / Ota�o-Rivera, W. / Garcia-Ruiz, J. M. / Messier, R. / Pilione, L. J.

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Titel:

Development of preferred orientation in polycrystalline AlN thin films deposited by rf sputtering system at low temperature

Beteiligte:

Rodriguez-Navarro, A. (Autor:in) / Ota�o-Rivera, W. (Autor:in) / Garcia-Ruiz, J. M. (Autor:in) / Messier, R. (Autor:in) / Pilione, L. J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 12 ; 1850-1855

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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