Influence of sputtering atmosphere on crystallinity and crystal orientation of AIN thin films deposited on polycrystalline MoSi~2 substrates: Fid-Bau Portal

Influence of sputtering atmosphere on crystallinity and crystal orientation of AIN thin films deposited on polycrystalline MoSi~2 substrates

Akiyama, M. / Xu, C. / Nonaka, K. / Hagio, T. / Nishimura, S. / Shobu, K. / Watanabe, T.

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Titel:

Influence of sputtering atmosphere on crystallinity and crystal orientation of AIN thin films deposited on polycrystalline MoSi~2 substrates

Beteiligte:

Akiyama, M. (Autor:in) / Xu, C. (Autor:in) / Nonaka, K. (Autor:in) / Hagio, T. (Autor:in) / Nishimura, S. (Autor:in) / Shobu, K. (Autor:in) / Watanabe, T. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 33 ; 2463-2467

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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