Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Thickness dependence of photocatalytic activity of anatase film by magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Sheng, J.
    Neue Suche nach: Karasawa, J.
    Neue Suche nach: Fukami, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Thickness dependence of photocatalytic activity of anatase film by magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Sheng, J.
    Neue Suche nach: Karasawa, J.
    Neue Suche nach: Fukami, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Thickness dependence of photocatalytic activity of anatase film by magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Sheng, J.
    Neue Suche nach: Karasawa, J.
    Neue Suche nach: Fukami, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Thickness dependence of photocatalytic activity of anatase film by magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Sheng, J. (Autor:in) / Karasawa, J. (Autor:in) / Fukami, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 16 ; 1709-1711

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1997

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0261-8028

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Low-temperature formation of photocatalytic Pt-anatase film by magnetron sputtering

    SHENG, J. / SHIVALINGAPPA, L. / KARASAWA, J. et al. | British Library Online Contents | 1999

    Theoretical and Experimental Analysis on Magnetron Sputtering Film Thickness Distribution

    Han, Y.P. / Wang, S.Z. / Wang, Q.W. et al. | British Library Conference Proceedings | 2012

    Thickness dependence of properties of ZnO:Ga films deposited by rf magnetron sputtering

    Yu, X. / Ma, J. / Ji, F. et al. | British Library Online Contents | 2005

    Thickness dependence of electrical properties of ITO film deposited on a plastic substrate by RF magnetron sputtering

    Kim, D. H. / Park, M. R. / Lee, H. J. et al. | British Library Online Contents | 2006

    Thickness dependence of microstructural evolution of ZnO films deposited by rf magnetron sputtering

    Yong Eui Lee / Young Jin Kim / Hyeong Joon Kim | British Library Online Contents | 1998

    Nach oben