Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Thickness dependence of properties of ZnO:Ga films deposited by rf magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Yu, X.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Ji, F.
    Neue Suche nach: Wang, Y.
    Neue Suche nach: Cheng, C.
    Neue Suche nach: Ma, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Thickness dependence of properties of ZnO:Ga films deposited by rf magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Yu, X.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Ji, F.
    Neue Suche nach: Wang, Y.
    Neue Suche nach: Cheng, C.
    Neue Suche nach: Ma, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Thickness dependence of properties of ZnO:Ga films deposited by rf magnetron sputtering

    Neue Suche nach: Yu, X.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Ji, F.
    Neue Suche nach: Wang, Y.
    Neue Suche nach: Cheng, C.
    Neue Suche nach: Ma, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Thickness dependence of properties of ZnO:Ga films deposited by rf magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Yu, X. (Autor:in) / Ma, J. (Autor:in) / Ji, F. (Autor:in) / Wang, Y. (Autor:in) / Cheng, C. (Autor:in) / Ma, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 245 ; 310-315

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    XPS analysis of ZnO:Ga films deposited by magnetron sputtering: Substrate bias effect

    Correia, F.C. / Bundaleski, N. / Teodoro, O.M.N.D. et al. | British Library Online Contents | 2018

    Preparation and characterisation of ZnO:Ga films deposited on polyimide substrate by r.f. magnetron sputtering

    Li, Sumin / Zhao, Yutao / Zhang, Zhao | British Library Online Contents | 2008

    Influence of Vacuum Annealing on Properties of ZnO:Ga Films Prepared by r.f. Magnetron Sputtering

    Jin, M. / Xuhu, Y. / Feng, J. | British Library Online Contents | 2005

    Growth characteristics and properties of ZnO:Ga thin films prepared by pulsed DC magnetron sputtering

    Yen, W. T. / Lin, Y. C. / Yao, P. C. et al. | British Library Online Contents | 2010

    Preparation and properties of ZnO:Ga films prepared by r.f. magnetron sputtering at low temperature

    Yu, X. / Ma, J. / Ji, F. et al. | British Library Online Contents | 2005

    Nach oben