CVD Reactors for Coating Tin Thin Films onto a Tungsten Carbide Surface: Fid-Bau Portal

CVD Reactors for Coating Tin Thin Films onto a Tungsten Carbide Surface

Ding, P. / Yuan, W.-K.

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Titel:

CVD Reactors for Coating Tin Thin Films onto a Tungsten Carbide Surface

Beteiligte:

Ding, P. (Autor:in) / Yuan, W.-K. (Autor:in) / Low, I. M.

Erschienen in:

Advanced Ceramic Tools for Machining Application - III ; 449-477

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 138/140

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

29 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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