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    Titel:

    Thermal chemical vapour deposition of copper films from copper ethylacetoacetate: microstructure and electrical resistivity

    Beteiligte:

    Devi, A. (Autor:in) / Shivashankar, S. A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 17 ; 367-370

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1998

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0261-8028

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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