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Formation of polycrystalline silicon with log-normal grain size distribution

Bergmann, R. B. / Shi, F. G. / Queisser, H. J. / Krinke, J.

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Titel:

Formation of polycrystalline silicon with log-normal grain size distribution

Beteiligte:

Bergmann, R. B. (Autor:in) / Shi, F. G. (Autor:in) / Queisser, H. J. (Autor:in) / Krinke, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 123/124 ; 376-380

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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