Electrical properties of TiN~x, films on p-silicon substrates obtained by reactive ion beam assisted deposition technique: Fid-Bau Portal

Electrical properties of TiN~x, films on p-silicon substrates obtained by reactive ion beam assisted deposition technique

Narsale, A. M. / Yousuf Pyar Ali / Kothari, D. C. / Guzman, L. / Miotello, A.

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Titel:

Electrical properties of TiN~x, films on p-silicon substrates obtained by reactive ion beam assisted deposition technique

Beteiligte:

Narsale, A. M. (Autor:in) / Yousuf Pyar Ali (Autor:in) / Kothari, D. C. (Autor:in) / Guzman, L. (Autor:in) / Miotello, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 17 ; 637-640

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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