In-situ poling of lithium niobate films on silicon wafer by applying a low electric field during pulsed laser deposition: Fid-Bau Portal

In-situ poling of lithium niobate films on silicon wafer by applying a low electric field during pulsed laser deposition

Guo, X. L. / Hu, W. S. / Liu, Z. G. / Zhu, S. N. / Yu, T. / Xiong, S. B. / Lin, C. Y.

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Titel:

In-situ poling of lithium niobate films on silicon wafer by applying a low electric field during pulsed laser deposition

Beteiligte:

Guo, X. L. (Autor:in) / Hu, W. S. (Autor:in) / Liu, Z. G. (Autor:in) / Zhu, S. N. (Autor:in) / Yu, T. (Autor:in) / Xiong, S. B. (Autor:in) / Lin, C. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 53 ; 278-283

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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