Low energy IBAD: correlation between process parameters and film properties for ion beam assisted evaporation and sputter deposition: Fid-Bau Portal

Low energy IBAD: correlation between process parameters and film properties for ion beam assisted evaporation and sputter deposition

Oechsner, H. / Schafft, M. / Schumacher, A. / Wolff, D.

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Titel:

Low energy IBAD: correlation between process parameters and film properties for ion beam assisted evaporation and sputter deposition

Beteiligte:

Oechsner, H. (Autor:in) / Schafft, M. (Autor:in) / Schumacher, A. (Autor:in) / Wolff, D. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALWISSENSCHAFT UND WERKSTOFFTECHNIK ; 29 ; 466-475

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0933-5137

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Deutsch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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