Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing: Fid-Bau Portal

Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing

Wang, Y. / Liao, X. / Ma, Z. / Yue, G. / Diao, H. / He, J. / Kong, G. / Zhao, Y. / Li, Z. / Yun, F.

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Titel:

Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing

Beteiligte:

Wang, Y. (Autor:in) / Liao, X. (Autor:in) / Ma, Z. (Autor:in) / Yue, G. (Autor:in) / Diao, H. (Autor:in) / He, J. (Autor:in) / Kong, G. (Autor:in) / Zhao, Y. (Autor:in) / Li, Z. (Autor:in) / Yun, F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 135 ; 205-208

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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