Preparation and characterization of ZrF~4-BaF~2-EuF~3 planar glass films by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Preparation and characterization of ZrF~4-BaF~2-EuF~3 planar glass films by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition

Kawamoto, Y. / Kanno, R. / Konishi, A.

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Titel:

Preparation and characterization of ZrF~4-BaF~2-EuF~3 planar glass films by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Kawamoto, Y. (Autor:in) / Kanno, R. (Autor:in) / Konishi, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 33 ; 5607-5612

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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