Physical properties of a-C:H films prepared by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Physical properties of a-C:H films prepared by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition

Zhou, X. T. / Lee, S. T. / Bello, I. / Cheung, A. C. / Chiu, D. S. / Lam, Y. W. / Lee, C. S. / Leung, K. M. / He, X. M.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Physical properties of a-C:H films prepared by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition

Zhou, X. T. / Lee, S. T. / Bello, I. / Cheung, A. C. / Chiu, D. S. / Lam, Y. W. / Lee, C. S. / Leung, K. M. / He, X. M.

Physical properties of a-C:H films prepared by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition

Zhou, X. T. / Lee, S. T. / Bello, I. / Cheung, A. C. / Chiu, D. S. / Lam, Y. W. / Lee, C. S. / Leung, K. M. / He, X. M.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Physical properties of a-C:H films prepared by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition

Beteiligte:

Zhou, X. T. (Autor:in) / Lee, S. T. (Autor:in) / Bello, I. (Autor:in) / Cheung, A. C. (Autor:in) / Chiu, D. S. (Autor:in) / Lam, Y. W. (Autor:in) / Lee, C. S. (Autor:in) / Leung, K. M. (Autor:in) / He, X. M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 77 ; 229 - 234

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

Wang, Z. / Ba, D. / Cao, P. et al. | British Library Online Contents | 2007

Synthesis of free standing carbon nanosheet using electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition

Thomas, R. / Rao, G. M. | British Library Online Contents | 2012

Biased Electron Cyclotron Resonance Chemical-Vapor Deposition of Silicon Dioxide Inter-Metal Dielectric Thin Films

Shufflebotham, P. / Weise, M. / Pirkle, D. et al. | British Library Online Contents | 1993

Effect of deposition pressure on bonding nature in hydrogenated amorphous carbon films processed by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition

Ryu, H.J. / Kim, S.H. / Hong, S.H. | British Library Online Contents | 2000

Preparation of boron and phosphorus-doped SiC: H films using electron cyclotron resonance chemical vapor deposition: Some effects of microwave power

Yoon, S. F. / Ji, R. / Ahn, J. | British Library Online Contents | 1999

Nach oben