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    Titel:

    Effect of stress on silicide formation kinetics in thin film titanium - selicon system

    Beteiligte:

    Nagabushnam, R. V. (Autor:in) / Singh, R. K. (Autor:in) / Sharan, S. (Autor:in) / Slaoui, A. / Singh, R. K. / Theiler, T. / Muller, J. C.

    Erschienen in:

    Papers presented at the European Materials Research Society 1998 Meeting. Symposium I: Rapid Thermal Processing ; 249-256

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 1

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1998

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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