Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization: Fid-Bau Portal

Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization

Hong, M. H. / Lu, Y. F. / Ho, T. M. / Lu, L. W. / Low, T. S.

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Titel:

Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization

Beteiligte:

Hong, M. H. (Autor:in) / Lu, Y. F. (Autor:in) / Ho, T. M. (Autor:in) / Lu, L. W. (Autor:in) / Low, T. S. (Autor:in) / Boyd, I. W. / Perriere, J. / Stuke, M.

Erschienen in:

Proceedings of Symposium G on Surface Processing: Laser, Lamp, Plasma of the 1998 E-MRS Spring Conference - Strasbourg, France, June 16-1998 ; 489-493

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 138/139

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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