Structural and electrical properties of Ta-Al thin films by magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Structural and electrical properties of Ta-Al thin films by magnetron sputtering

Wuu, D.-S. / Chan, C.-C. / Horng, R.-H. / Lin, W.-C. / Chiu, S.L. / Wu, Y.Y.

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Titel:

Structural and electrical properties of Ta-Al thin films by magnetron sputtering

Beteiligte:

Wuu, D.-S. (Autor:in) / Chan, C.-C. (Autor:in) / Horng, R.-H. (Autor:in) / Lin, W.-C. (Autor:in) / Chiu, S.L. (Autor:in) / Wu, Y.Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 144 ; 315-318

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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