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Titanium carbide etching in high density plasma

Hsiao, R. / Miller, D. / Nguyen, S. / Kellock, A.

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Titel:

Titanium carbide etching in high density plasma

Beteiligte:

Hsiao, R. (Autor:in) / Miller, D. (Autor:in) / Nguyen, S. (Autor:in) / Kellock, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 148 ; 1-8

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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