A new metal-organic precursor for the low-temperature atmospheric pressure chemical vapor deposition of zinc oxide films: Fid-Bau Portal

A new metal-organic precursor for the low-temperature atmospheric pressure chemical vapor deposition of zinc oxide films

Suh, S. / Hoffman, D. M. / Atagi, L. M. / Smith, D. C.

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Titel:

A new metal-organic precursor for the low-temperature atmospheric pressure chemical vapor deposition of zinc oxide films

Beteiligte:

Suh, S. (Autor:in) / Hoffman, D. M. (Autor:in) / Atagi, L. M. (Autor:in) / Smith, D. C. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 18 ; 789-792

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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