A New Precursor for Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Iridium Thin Films: Fid-Bau Portal

A New Precursor for Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Iridium Thin Films

Xin, Y. / Qiuyu, Z. / Xiaodong, F.

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Titel:

A New Precursor for Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Iridium Thin Films

Beteiligte:

Xin, Y. (Autor:in) / Qiuyu, Z. (Autor:in) / Xiaodong, F. (Autor:in)

Erschienen in:

RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING ; 35 ; 1129-1131

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1002-185X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 669

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