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Plasma etching of magnetic multilayers - effect of concurrent UV illumination

Cho, H. / Lee, K.P. / Hahn, Y.B. / Lambers, E.S. / Pearton, S.J.

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Titel:

Plasma etching of magnetic multilayers - effect of concurrent UV illumination

Beteiligte:

Cho, H. (Autor:in) / Lee, K.P. (Autor:in) / Hahn, Y.B. (Autor:in) / Lambers, E.S. (Autor:in) / Pearton, S.J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 67 ; 145 - 151

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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