Effect of Plasma Etching and Sacrificial Oxidation on 4H-SiC Schottky Barrier Diodes: Fid-Bau Portal

Effect of Plasma Etching and Sacrificial Oxidation on 4H-SiC Schottky Barrier Diodes

Morrison, D. J. / Pidduck, A. J. / Moore, V. / Wilding, P. J. / Hilton, K. P. / Uren, M. J. / Johnson, C. M.

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Titel:

Effect of Plasma Etching and Sacrificial Oxidation on 4H-SiC Schottky Barrier Diodes

Beteiligte:

Morrison, D. J. (Autor:in) / Pidduck, A. J. (Autor:in) / Moore, V. (Autor:in) / Wilding, P. J. (Autor:in) / Hilton, K. P. (Autor:in) / Uren, M. J. (Autor:in) / Johnson, C. M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 338/342 ; 1199-1202

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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