Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Atomic layer deposition of Al2O3 and SiO2 on BN particles using sequential surface reactions

    Neue Suche nach: Ferguson, J. D.
    Neue Suche nach: Weimer, A. W.
    Neue Suche nach: George, S. M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Atomic layer deposition of Al2O3 and SiO2 on BN particles using sequential surface reactions

    Neue Suche nach: Ferguson, J. D.
    Neue Suche nach: Weimer, A. W.
    Neue Suche nach: George, S. M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Atomic layer deposition of Al2O3 and SiO2 on BN particles using sequential surface reactions

    Neue Suche nach: Ferguson, J. D.
    Neue Suche nach: Weimer, A. W.
    Neue Suche nach: George, S. M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Atomic layer deposition of Al2O3 and SiO2 on BN particles using sequential surface reactions

    Beteiligte:

    Ferguson, J. D. (Autor:in) / Weimer, A. W. (Autor:in) / George, S. M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 162/163 ; 280-292

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    13 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Hydrogen induced interface passivation in atomic layer deposited Al2O3 films and Al2O3/SiO2 stacks

    Li, Shizheng / Yang, Ning / Yuan, Xiao et al. | British Library Online Contents | 2018

    Hydrogen induced interface passivation in atomic layer deposited Al2O3 films and Al2O3/SiO2 stacks

    Li, Shizheng / Yang, Ning / Yuan, Xiao et al. | British Library Online Contents | 2018

    Enhancement of photoluminescence intensity from Si nanodots using Al2O3 surface passivation layer grown by atomic layer deposition

    Sun, E. / Su, F. H. / Chen, C. H. et al. | British Library Online Contents | 2010

    Scalable Production of Nanostructured Particles using Atomic Layer Deposition

    Aristeidis Goulas / J. Ruud van Ommen | DOAJ | 2014

    Freier Zugriff

    Durable superhydrophobic wool fabrics coating with nanoscale Al2O3 layer by atomic layer deposition

    Xiao, X. / Cao, G. / Chen, F. et al. | British Library Online Contents | 2015

    Nach oben