Plasma-enhanced chemical vapor deposition of PbTiO3 thin films: Fid-Bau Portal

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of PbTiO3 thin films

Tong, M. / Dai, G. / Gao, D.

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Titel:

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of PbTiO3 thin films

Beteiligte:

Tong, M. (Autor:in) / Dai, G. (Autor:in) / Gao, D. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 46 ; 60-64

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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