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    Titel:

    Aluminum chemical vapor deposition reaction of dimethylaluminum hydride on TiN studied by X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry

    Beteiligte:

    Tanaka, K. (Autor:in) / Yanashima, H. (Autor:in) / Yako, T. (Autor:in) / Kamio, K. (Autor:in) / Sugai, K. (Autor:in) / Kishida, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 171 ; 71-81

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    11 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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