The initial stage of nucleation and growth of Al on H/Si(100)-1 x 1 by dimethylaluminum hydride vapor deposition: Fid-Bau Portal

The initial stage of nucleation and growth of Al on H/Si(100)-1 x 1 by dimethylaluminum hydride vapor deposition

Shen, T.-C. / Wang, C. / Tucker, J. R.

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Titel:

The initial stage of nucleation and growth of Al on H/Si(100)-1 x 1 by dimethylaluminum hydride vapor deposition

Beteiligte:

Shen, T.-C. (Autor:in) / Wang, C. (Autor:in) / Tucker, J. R. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 141 ; 228-236

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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