Surface cleanness of substrate transported by XHV integrated process: Fid-Bau Portal

Surface cleanness of substrate transported by XHV integrated process

Tosa, M. / Lee, K. S. / Kim, Y. S. / Kasahara, A. / Yoshihara, K.

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Titel:

Surface cleanness of substrate transported by XHV integrated process

Beteiligte:

Tosa, M. (Autor:in) / Lee, K. S. (Autor:in) / Kim, Y. S. (Autor:in) / Kasahara, A. (Autor:in) / Yoshihara, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 169-170 ; 689-694

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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