Aging effect of SiO2 xerogel film on its microstructure and dielectric properties: Fid-Bau Portal

Aging effect of SiO2 xerogel film on its microstructure and dielectric properties

Kim, J. H. / Kim, H. R. / Park, H. H. / Hyun, S. H.

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Titel:

Aging effect of SiO2 xerogel film on its microstructure and dielectric properties

Beteiligte:

Kim, J. H. (Autor:in) / Kim, H. R. (Autor:in) / Park, H. H. (Autor:in) / Hyun, S. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 169-170 ; 452-456

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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