Effect of Annealing Temperature on the Formation of Silicides and the Surface Morphologies of PtSi Films: Fid-Bau Portal

Effect of Annealing Temperature on the Formation of Silicides and the Surface Morphologies of PtSi Films

Yin, J. / Li, M. / Zheng, Y. / Wang, Z. / Cai, W. / Wang, P. / Zhao, L.

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Titel:

Effect of Annealing Temperature on the Formation of Silicides and the Surface Morphologies of PtSi Films

Beteiligte:

Yin, J. (Autor:in) / Li, M. (Autor:in) / Zheng, Y. (Autor:in) / Wang, Z. (Autor:in) / Cai, W. (Autor:in) / Wang, P. (Autor:in) / Zhao, L. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -SHENYANG- ; 17 ; 39-40

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

2 pages

ISSN:

1005-0302

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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