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    Titel:

    Growth of tin nitride thin films by atmospheric pressure chemical vapor deposition using a halide source

    Beteiligte:

    Takahashi, N. (Autor:in) / Terada, K. (Autor:in) / Nakamura, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 20 ; 227-228

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    2 pages

    ISSN:

    0261-8028

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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