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    Titel:

    Photoresist materials for 157-nm photolithography

    Beteiligte:

    Sarantopoulou, E. (Autor:in) / Cefalas, A. C. (Autor:in) / Argitis, P. (Autor:in) / Gogolides, E. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -AMSTERDAM THEN LAUSANNE- C ; 15 ; 159-161

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0928-4931

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1 / 660

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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