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Effect of uniform stress on silicon implanted with helium, hydrogen and oxygen

Misiuk, A. / Bak-Misiuk, J. / Antonova, I. V. / Raineri, V. / Romano-Rodriguez, A. / Bachrouri, A. / Surma, H. B. / Ratajczak, J. / Katcki, J. / Adamczewska, J.

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Titel:

Effect of uniform stress on silicon implanted with helium, hydrogen and oxygen

Beteiligte:

Misiuk, A. (Autor:in) / Bak-Misiuk, J. (Autor:in) / Antonova, I. V. (Autor:in) / Raineri, V. (Autor:in) / Romano-Rodriguez, A. (Autor:in) / Bachrouri, A. (Autor:in) / Surma, H. B. (Autor:in) / Ratajczak, J. (Autor:in) / Katcki, J. (Autor:in) / Adamczewska, J. (Autor:in)

Erschienen in:

COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE ; 21 ; 515-525

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 510

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