Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films: Fid-Bau Portal

Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films

Aguas, H. / Martins, R. / Nunes, Y. / Maneira, M. / Fortunato, E.

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Titel:

Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films

Beteiligte:

Aguas, H. (Autor:in) / Martins, R. (Autor:in) / Nunes, Y. (Autor:in) / Maneira, M. (Autor:in) / Fortunato, E. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 382 ; 11-20

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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