Tert-butylamine and allylamine as reductive nitrogen sources in atomic layer deposition of TaN thin films: Fid-Bau Portal

Tert-butylamine and allylamine as reductive nitrogen sources in atomic layer deposition of TaN thin films

Alen, P. / Juppo, M. / Ritala, M. / Leskela, M. / Sajavaara, T. / Keinonen, J.

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Titel:

Tert-butylamine and allylamine as reductive nitrogen sources in atomic layer deposition of TaN thin films

Beteiligte:

Alen, P. (Autor:in) / Juppo, M. (Autor:in) / Ritala, M. (Autor:in) / Leskela, M. (Autor:in) / Sajavaara, T. (Autor:in) / Keinonen, J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 17 ; 107-114

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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