Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Issues in High-kappa Gate Stack Interfaces

    Neue Suche nach: Misra, V.
    Neue Suche nach: Lucovsky, G.
    Neue Suche nach: Parsons, G.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Issues in High-kappa Gate Stack Interfaces

    Neue Suche nach: Misra, V.
    Neue Suche nach: Lucovsky, G.
    Neue Suche nach: Parsons, G.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Issues in High-kappa Gate Stack Interfaces

    Neue Suche nach: Misra, V.
    Neue Suche nach: Lucovsky, G.
    Neue Suche nach: Parsons, G.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Issues in High-kappa Gate Stack Interfaces

    Beteiligte:

    Misra, V. (Autor:in) / Lucovsky, G. (Autor:in) / Parsons, G. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MRS BULLETIN- MATERIALS RESEARCH SOCIETY ; 27 ; 212-216

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0883-7694

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    High-kappa Gate Dielectric Materials

    Wallace, R. M. / Wilk, G. | British Library Online Contents | 2002

    Post Metallization Annealing Characterization of Interface Properties of High- kappa Dielectrics Stack on Silicon Carbide

    Weng, M.H. / Mahapatra, R. / Wright, N.G. et al. | British Library Online Contents | 2009

    Post Metallization Annealing Characterization of Interface Properties of High- kappa Dielectrics Stack on Silicon Carbide

    Weng, M.H. / Mahapatra, R. / Wright, N.G. et al. | British Library Online Contents | 2009

    High-kappa Gate Dielectric and Transparent Conducting Oxide Explored in MRS Workshops

    British Library Online Contents | 2000

    Heavy Water in Gate Stack Processing

    Pap, A.E. / Ducso, C. / Kamaras, K. et al. | British Library Online Contents | 2008

    Nach oben