Fabrication of photonic structures by means of interference lithography and reactive ion etching: Fid-Bau Portal

Fabrication of photonic structures by means of interference lithography and reactive ion etching

Mikulskas, I. / Mickevicius, J. / Vaitkus, J. / Tomasiunas, R. / Grigaliunas, V. / Kopustinskas, V. / Meskinis, S.

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Titel:

Fabrication of photonic structures by means of interference lithography and reactive ion etching

Beteiligte:

Mikulskas, I. (Autor:in) / Mickevicius, J. (Autor:in) / Vaitkus, J. (Autor:in) / Tomasiunas, R. (Autor:in) / Grigaliunas, V. (Autor:in) / Kopustinskas, V. (Autor:in) / Meskinis, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 186 ; 599-603

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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