Electron beam lithography and reactive ion etching of nanometer size features in niobium films: Fid-Bau Portal

Electron beam lithography and reactive ion etching of nanometer size features in niobium films

Piotrowski, T. T. / Piotrowska, A. / Kaminska, E. / Szopniewski, Z. / Kolesnik, S. / Wrobel, J. / Gier&lz.shtsls / owski, P. / Lewandowski, S.

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Piotrowski, T. T. / Piotrowska, A. / Kaminska, E. / Szopniewski, Z. / Kolesnik, S. / Wrobel, J. / Gier&lz.shtsls / owski, P. / Lewandowski, S.

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Titel:

Electron beam lithography and reactive ion etching of nanometer size features in niobium films

Beteiligte:

Piotrowski, T. T. (Autor:in) / Piotrowska, A. (Autor:in) / Kaminska, E. (Autor:in) / Szopniewski, Z. (Autor:in) / Kolesnik, S. (Autor:in) / Wrobel, J. (Autor:in) / Gier&lz.shtsls (Autor:in) / owski, P. (Autor:in) / Lewandowski, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -AMSTERDAM THEN LAUSANNE- C ; 15 ; 171-173

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0928-4931

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 660

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