Compositional depth profiling of ultrathin oxynitride/Si interface using XPS: Fid-Bau Portal

Compositional depth profiling of ultrathin oxynitride/Si interface using XPS

Kato, H. / Nishizaki, K. / Takahashi, K. / Nohira, H. / Tamura, N. / Hikazutani, K. / Sano, S. / Hattori, T.

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Titel:

Compositional depth profiling of ultrathin oxynitride/Si interface using XPS

Beteiligte:

Kato, H. (Autor:in) / Nishizaki, K. (Autor:in) / Takahashi, K. (Autor:in) / Nohira, H. (Autor:in) / Tamura, N. (Autor:in) / Hikazutani, K. (Autor:in) / Sano, S. (Autor:in) / Hattori, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 190 ; 39-42

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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