Ultra low energy SIMS depth profiling of sub-1.5nm silicon oxynitride films: Fid-Bau Portal

Ultra low energy SIMS depth profiling of sub-1.5nm silicon oxynitride films

Mulcahy, C. P. / Bock, B. / Ebblewhite, P. A. / Hebert, H. P. / Biswas, S.

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Titel:

Ultra low energy SIMS depth profiling of sub-1.5nm silicon oxynitride films

Beteiligte:

Mulcahy, C. P. (Autor:in) / Bock, B. (Autor:in) / Ebblewhite, P. A. (Autor:in) / Hebert, H. P. (Autor:in) / Biswas, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7198-7200

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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