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Formation of carbon nanowires by annealing silicon carbide films deposited by magnetron sputtering

Xia, A. / Huizhao, Z. / Li, Y. / Chengshan, X.

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Titel:

Formation of carbon nanowires by annealing silicon carbide films deposited by magnetron sputtering

Beteiligte:

Xia, A. (Autor:in) / Huizhao, Z. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / Chengshan, X. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 193 ; 87-91

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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