Atomic layer deposition of TiO2 thin films from TiI4 and H2O: Fid-Bau Portal

Atomic layer deposition of TiO2 thin films from TiI4 and H2O

Aarik, J. / Aidla, A. / Uustare, T. / Kukli, K. / Sammelselg, V. / Ritala, M. / Leskela, M.

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Titel:

Atomic layer deposition of TiO2 thin films from TiI4 and H2O

Beteiligte:

Aarik, J. (Autor:in) / Aidla, A. (Autor:in) / Uustare, T. (Autor:in) / Kukli, K. (Autor:in) / Sammelselg, V. (Autor:in) / Ritala, M. (Autor:in) / Leskela, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 193 ; 277-286

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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