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Thermal expansion of low-pressure chemical vapor deposition polysilicon films

Kahn, H. / Ballarini, R. / Heuer, A. H.

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Titel:

Thermal expansion of low-pressure chemical vapor deposition polysilicon films

Beteiligte:

Kahn, H. (Autor:in) / Ballarini, R. (Autor:in) / Heuer, A. H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 17 ; 1855-1862

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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