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    Titel:

    Atomistic simulations of surface coverage effects in anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon

    Beteiligte:

    Gosalvez, M. A. (Autor:in) / Foster, A. S. (Autor:in) / Nieminen, R. M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 202 ; 160-182

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    23 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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