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Characterization of low-k porous silica films incorporated with alkylene groups

Uchida, Y. / Katoh, T. / Oikawa, M.

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Titel:

Characterization of low-k porous silica films incorporated with alkylene groups

Beteiligte:

Uchida, Y. (Autor:in) / Katoh, T. (Autor:in) / Oikawa, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 259-264

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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