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Thermomechanical Lithography: Pattern Replication Using a Temperature Gradient Driven Instability

Schaffer, E. / Harkema, S. / Roerdink, M. / Blossey, R. / Steiner, U.

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Titel:

Thermomechanical Lithography: Pattern Replication Using a Temperature Gradient Driven Instability

Beteiligte:

Schaffer, E. (Autor:in) / Harkema, S. (Autor:in) / Roerdink, M. (Autor:in) / Blossey, R. (Autor:in) / Steiner, U. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 15 ; 514-517

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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