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    Dokumentinformationen
    Titel:

    On the impact of nanotopography of silicon wafers on post-CMP oxide layers

    Beteiligte:

    Schmolke, R. (Autor:in) / Deters, R. (Autor:in) / Thieme, P. (Autor:in) / Pech, R. (Autor:in) / Schwenk, H. (Autor:in) / Diakourakis, G. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 413-418

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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