Ellipsometric analysis of ultrathin oxide layers on SIMOX wafers: Fid-Bau Portal

Ellipsometric analysis of ultrathin oxide layers on SIMOX wafers

Motooka, T. / Kusano, Y. / Nisihira, K. / Kato, N.

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Titel:

Ellipsometric analysis of ultrathin oxide layers on SIMOX wafers

Beteiligte:

Motooka, T. (Autor:in) / Kusano, Y. (Autor:in) / Nisihira, K. (Autor:in) / Kato, N. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 159-160 ; 111-115

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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