Dual-source chemical vapour deposition of titanium(III) phosphide from titanium tetrachloride and tristrimethylsilylphosphine: Fid-Bau Portal

Dual-source chemical vapour deposition of titanium(III) phosphide from titanium tetrachloride and tristrimethylsilylphosphine

Blackman, C. S. / Carmalt, C. J. / O'Neill, S. A. / Parkin, I. P. / Apostolico, L. / Molloy, K. C.

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Titel:

Dual-source chemical vapour deposition of titanium(III) phosphide from titanium tetrachloride and tristrimethylsilylphosphine

Beteiligte:

Blackman, C. S. (Autor:in) / Carmalt, C. J. (Autor:in) / O'Neill, S. A. (Autor:in) / Parkin, I. P. (Autor:in) / Apostolico, L. (Autor:in) / Molloy, K. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 211 ; 2-5

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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